Altium/Protel论坛 |  PADS论坛 |  Cadence Allegro论坛 | 

AD正片铜箔和覆铜处理

 

建立动态正片铜箔的方法:

1)执行菜单命令【PlaceàPolygon Pour…】,或执行菜单图标如图7-61,即可进入正片铜箔绘制状态。
     
 

2)在弹出的如下图所示的菜单中进行下列设置:

Fill Mode:灌铜方式选择,有三种形式,通常使用第一种。

Remove Necks When Copper Width Less Than:自动去除宽度小于设定值的铜线,一般直接使用默认值即可。

Properties:灌铜属性,一般需要设置的是铜箔所在层,通过“Layer”下拉菜单进行调整。

Net Options:网络设置,“Connect to Net”下拉菜单可以指定所绘制铜箔的网络,下方的下拉菜单可以设置铜箔连接对象,一般使用“Pour Over All Same Net Objects”,“Remove Dead Copper”选项为去除死铜,通常设置为勾选。


 

设置完成后点击“OK”按钮,绘制一个多边形的铜箔,即为动态正片铜箔。

2.在动态正片铜箔绘制完成后,经常会需要对其进行修改和重新铺设。

1)修改铜箔边界。执行键盘命令“M”,在弹出的菜单中选择“Polygon Vertices”,鼠标变为十字状态,点选需要修改的铜箔,该铜箔会进入边界修改状态。用鼠标点选需要修改的边界即可直接调整改铜箔的形状。

2)对铜箔内容修改后重新生成铜箔。如果设计师对铜箔覆盖范围内的线路、铜箔、焊盘、过孔进行了修改,那必须要重新生成铜箔,以免产生短路问题。双击需要修改的铜箔,在弹出的铜箔属性界面直接点击“OK”,即可重新生成铜箔。

3)在特定区域将铜箔挖空。执行菜单命令【Place-Polygon Pour Cutout】,即进入铜箔挖空区域绘制状态。绘制出需要挖空的区域的外框形状,并重新生成被挖空的铜箔,即可在铜箔上掏出对应形状的挖空区域;

如图
 

 

内容版权声明:除非注明,否则皆为本站原创文章。

转载注明出处:http://www.dodopcb.com/ziyuan/Altium_Protelluntan/121.html